前言

热丝CVD法是在20世纪70年代开始逐渐形成的一种金刚石薄膜沉积方法。该方法在制备金刚石薄膜时具有装置简单、设备尺寸易于放大、工艺条件容易控制、制备成本较低等优势，是目前应用比较多的一种方法。由于该方法在金刚石薄膜沉积过程中热丝质量会变大，导致金刚石薄膜厚度不均匀，另外热丝也会对薄膜有污染，不容易制备高质量的金刚石薄膜，因此该方法制备的金刚石薄膜主要用于热沉、刀具等领域。

近年来随着越来越多的研究者对热丝法合成金刚石薄膜技术的不断改进，目前已经出现了较为成熟的热丝法合成金刚石薄膜技术，但一直没有出现全面分析热丝法合成金刚石薄膜具体过程及其微观机理的书籍。

本书共分为4章，首先对CVD金刚石薄膜的性质及应用进行概述；然后对热丝化学气相法沉积金刚石薄膜的形核、生长过程及规律系统地进行研究分析，并对沉积过程中气相化学进行诊断分析，讨论添加辅助气体对气相活性基团的影响以及对沉积金刚石薄膜质量和生长速率的影响；最后介绍热丝CVD金刚石薄膜涂层钻头以及微米、纳米复合涂层金刚石薄膜模具。本书对热丝CVD沉积规律、机理以及在硬质合金微型钻头、模具上的应用等关键技术进行了系统研究，丰富了热丝CVD金刚石薄膜涂层理论和应用技术。

编著者

2017年9月